1.芯片廠（chǎng）酸性廢氣概述

隨著科技進度，我國芯片製造行業飛速發展，行業技術日新月異，產品規模持續走高。芯片在製造工藝中使用各種酸液清洗、刻蝕芯片等過程中產生HF、HCl、硫酸霧等酸性氣體。對於（yú）芯片廠企業（yè）在生產工藝過程中產生的腐（fǔ）蝕性氣體（如酸、堿性廢氣）的治理，目前大多企業采用液體吸收法治（zhì）理，采用液體吸收法治理該廢氣，關鍵在於廢氣淨化設備的選擇（zé）。酸性廢氣治理通常采用噴淋塔，通過酸堿中和反應（yīng）來淨化酸性氣體。

2.噴淋塔工作原理

噴淋塔淨化原理是將氣體中的汙染物（wù）質分離出來，轉化為無害物質，以達（dá）到淨化氣體的目的。它屬於微分（fèn）接觸逆流（liú）式，塔體內（nèi）的填料（liào）是氣液兩相接觸的基本構件，塔體外部的氣體進入塔體後，氣體進入填料層，填料層上有來自於頂（dǐng）部噴淋液體及前麵的噴淋液（yè）體，並（bìng）在填料上形成一層液膜，氣（qì）體流經填料空（kōng）隙時（shí），與填料液膜接觸並進行吸收（shōu）或綜合反應，填（tián）料層能提供足夠大（dà）的表麵積，對氣體流動（dòng）又不致於造成過大的阻力（lì），經吸收或綜合後的氣體經除霧器收集後，經出風口排出（chū）塔外。

3.芯片廠（chǎng）廢氣處理工藝說明（míng）

生產車間（jiān）酸洗（xǐ）池（chí）酸霧廢氣經風罩收集，經管道再進（jìn）入酸性廢氣淨化設備，酸霧淨化塔體放置二層填料層並配置二級水浴裝置，並在循環水池內加氫氧化（huà）鈉（簡稱堿），以中和廢氣中的酸霧，酸霧處理塔的上端噴頭噴出吸收液（yè）均勻（yún）分布（bù）在填料上（shàng），廢氣與吸收液在填料（liào）表麵上充分接觸（chù），由於填（tián）料的機械強度大、耐腐蝕、空隙率高、表麵大的（de）特（tè）點，廢氣與吸收液在填料表麵有較多的接觸（chù）麵積和反應時間。淨化後的氣體（tǐ）會飽含（hán）水份經過塔頂的除霧裝置去除水份後直接排（pái）放大氣中。

4.噴淋塔應用範圍

酸性廢氣淨化設備廣泛用（yòng）於電子、化工、電鍍、五金、製藥、印染、半導體製造等行業中產生的有（yǒu）害廢氣，如（rú）：鹽酸（HCI)、氟化氫氣體（HF）、氨氣（NH3）、硫（liú）酸霧（wù）（H2SO4)、鉻酸霧（CrO3)、氫氰酸氣體（tǐ）（HCN)、堿蒸汽（NaOH)、硫化氫氣體（H2S)、福爾（ěr）馬林（HCHO）等水溶性氣體。