1.UV光解（jiě）廢氣處理器簡述

UV光解廢氣處理器是指利用高能UV紫外線（xiàn）光束分解空氣中的氧分子產生遊離氧（即活性（xìng）氧），因遊離氧所攜（xié）帶正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭（chòu）氧，臭氧具有很強的氧化性（xìng），通過臭（chòu）氧對有機廢氣（qì）、惡臭氣體進行協同光解氧化作用，使有機廢氣、惡臭氣體物質降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳。

2.UV光解廢氣處理（lǐ）技術原理

（1）利用特製的高能UV紫外線光（guāng）束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二（èr）硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構，使有機（jī）或無機高（gāo）分子惡臭化合物分子鏈（liàn），在高（gāo）能紫外線光束照射下，降解轉（zhuǎn）變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

（2）利用高能UV紫外（wài）線光束分解空氣中的氧分子產生遊離氧，即活性氧，因遊離氧所攜帶正負電子不平（píng）衡所（suǒ）以需與氧分子結（jié）合，進而產生臭（chòu）氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭（chòu）氧對有機物（wù）具有很強的（de）氧化作（zuò）用，對惡臭氣（qì）體（tǐ）及其它刺激性（xìng）異味有立竿（gān）見（jiàn）影的清除效（xiào）果。

（3）有機廢氣、惡臭氣體利用排風設備輸入到UV光解廢氣淨化設備後，UV光解廢（fèi）氣淨（jìng）化設備運用高能UV紫外線（xiàn）光束及臭氧對惡臭氣體進行協（xié）同分解氧化反應，使惡臭氣體物質其降解轉化（huà）成（chéng）低（dī）分子化合物（wù）、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。

（4）利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（suān）(DNA)，再通過臭氧進行氧化反應，徹底達到有效脫臭及殺滅細菌的目的。

3.UV光解廢氣處（chù）理（lǐ）器優勢

（1）高效除惡臭：能高效（xiào）去除揮（huī）發（fā）性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要（yào）汙染物，以及各種惡臭味氣體，脫（tuō）臭效率可達到95%以上（shàng），脫臭效果超過國家1993年頒布的惡（è）臭汙染物排放標準(GB14554-93)和1996年頒布的《大氣汙染物綜合排放標準》(GB16297-1996)。

無需預處理：有機（jī）氣體無需進行（háng）特殊的預處理，如加溫、加濕等,設備工作環境溫度在-30℃－95℃之間，濕（shī）度（dù）在30%－98%、PH值在2-11範圍均可正常工（gōng）作。

（2）無需添加任何物質：隻需要設置相（xiàng）應的排風管道（dào）和排風動力，使惡臭氣體以及工業廢氣通過UV光解廢氣（qì）淨化設備進行脫臭分解淨化，無需添加（jiā）任何物質（zhì）參與化學反應。

（3）適（shì）應（yīng）性強：可適應中低濃度，不同工業廢氣物質的脫臭、淨化（huà）處理，可每天24小時連續工作，運（yùn）行穩定可靠。

（4）運行成本低：無任何機械動（dòng）作，無噪音，無需專人管理和日常維護，隻需作定期檢查，設備能耗低（dī），設備風阻低（dī）<50pa,可（kě）節約大（dà）量排風動力能耗。

（5）安全可靠：因（yīn）采用光解原理，模塊采取隔爆處理，消除了安（ān）全隱患，防火、防爆、防腐蝕（shí）性能高，設備性能安全穩定（dìng），特別適用於采油(氣)田、石油化工、製藥等防爆要求高的行業。

4.UV光解廢氣處理器應用（yòng）範圍

印（yìn）刷、印染、電子、塑料、塗料、噴塗、家具、橡膠、化工、造紙、皮革、製藥、食品加工、飼料、屠宰、汙（wū）水處理、垃圾分揀及中轉等行業及領域的惡臭氣（qì）體、工業廢氣的淨化處理。