1.集成電路廢氣（qì）簡述

現代社會已進入以微電子技術為（wéi）核心的信息時代，信息產業已（yǐ）經成為（wéi）現代（dài）經濟的重要支柱產業。微電子技術和微（wēi）電子工業的代表是集成電路（lù），而芯片作為集成電（diàn）路（lù）核部（bù）件，隨著信息（xī）產業的（de）迅速發展，通訊設備、網絡設備和個人新算機需求持續增長，大（dà）大促進了集成電路芯片市場（chǎng）的擴大。但是集成（chéng）電路芯片在製造生產過（guò）程產生酸性氣體、堿（jiǎn）性氣體、有機廢氣等廢氣汙染物（wù），這些汙染物（wù）如果不經過處（chù）理而排放會對環境和人身體健康產生危（wēi）害，為了減少大氣汙（wū）染、淨化空氣達標（biāo）排放，因此（cǐ），需（xū）要對集成電路芯片廢氣進（jìn）行淨（jìng）化處理（lǐ）後達標排放。

2.集成電路芯片廢（fèi）氣處理方（fāng）法

集成電路芯（xīn）片製（zhì）造生產過程（chéng）產（chǎn）生（shēng）廢氣主要為酸性氣體、堿性氣（qì）體、有機廢氣等廢氣汙染物（wù）。酸性氣體處理方法采（cǎi）用堿液噴淋法即（jí）可處理（lǐ），堿性氣體處理采（cǎi）用酸（suān）液（yè）噴淋法（fǎ）處理，然而對於有（yǒu）機廢氣處理方法有很多種，常見主要有活性炭吸附法、燃燒法、UV光解（jiě）淨化法，下麵国产精品一区二区尿失禁（yáng）環保小編詳（xiáng）細介紹集成電路芯片廢氣處理方法。

2.1 酸性、堿性氣體處理方法

酸性廢氣處理方法是（shì）采用“堿液（yè）噴淋塔”進行處理，以10%的氫氧化（huà）鈉溶液為吸收液。堿性廢氣處理方法是采用“酸液噴淋塔”進行處理（lǐ），以10%的硫酸溶液為（wéi）吸收液。酸性、堿性廢（fèi）氣洗滌淨化法，在電子行業生產中應（yīng）用相當普遍，具有運行穩定，處理效果好，投資少，處理費用低等優點。

2.2有機廢氣處理方法

（1）活性炭吸附法

活性炭吸（xī）附（fù）法主（zhǔ）要原理就是利用多孔固體（tǐ）吸附劑（活性碳、矽膠、分子篩等）來處理有（yǒu）機廢氣，這樣就能夠通過化學鍵力或者是分子引力充分（fèn）吸附有害（hài）成分（fèn），並且將其吸附在吸附劑的表麵，從而達（dá）到淨化有機廢氣的目（mù）的。吸附（fù）法目前主要應用於大風量、低濃度（≤800mg/m3）、無顆粒物、無粘性物、常溫的低濃度有機廢氣淨化處理。

活性炭淨化率高（活性炭吸附可達（dá）到90%以上），實用遍及（jí），操縱簡單（dān），投資低。在吸（xī）附飽和以後需要（yào）更換新的活性炭，更換活性炭需要費用（yòng），替換下來的（de）飽和以後的活性炭也是（shì）需要找專業人員進（jìn）行（háng）危廢處理，運行費用高。

（2）燃（rán）燒（shāo）法

燃燒法隻在揮發性有機物在高溫及空氣充足的條件（jiàn）下進行完全燃燒（shāo），分解為CO2和H2O。燃燒法適用於各類有機廢氣，可以分為直接燃燒（shāo）、熱力（lì）燃燒（shāo）和催化（huà）燃燒。

排放濃度大於5000mg/m³ 的高濃度廢氣一般（bān）采用直接燃（rán）燒法，該方法（fǎ）將VOCs廢氣作（zuò）為燃料進行燃燒，燃燒溫度一般控製在1100℃，處理效率高，可以（yǐ）達到（dào）95％一（yī）99％。

熱力燃燒法適合於處理（lǐ）濃度（dù）在1000—5000 mg/m³ 的廢氣，采用熱力燃燒法，廢氣中VOCs濃度較低，需要（yào）借助其他（tā）燃（rán）料或（huò）助燃氣體，熱力燃燒所需的溫度較直接燃燒低，大（dà）約為540—820℃。燃燒法處理VOCs廢（fèi）氣處理效率高，但VOCs廢氣若含有S、N等元素，燃燒後產生的（de）廢氣直（zhí）接外排會導致二次汙染。

通過熱力燃燒或者催化（huà）燃燒法處理有（yǒu）機廢氣，其淨化率是比較高的，但是其投資運營成本極高。因廢氣排放的（de）點多且分散，很難實（shí）現集中收集。燃燒裝置需要多套且需要很大的占地麵積。熱力燃燒比（bǐ）較適合24小時連續不（bú）斷運行且濃度較高而（ér）穩定的廢氣工（gōng）況（kuàng），不適合間斷性的生產產線工況。催化（huà）燃燒的投資和運營（yíng）費用相對熱力燃燒較低，但淨（jìng）化效率也相對較（jiào）低一些；但貴金屬催化劑容易因為廢氣中的雜質（如硫化物）等造成中（zhōng）毒（dú）失效，而更（gèng）換催化劑（jì）的費用很（hěn）高；同時對（duì）廢氣進氣條件的控製非常嚴格，否則會造成催化燃燒室堵塞而引起（qǐ）安全事（shì）故。

（3）UV光解淨化法

UV光解淨化法（fǎ）利用高能UV紫（zǐ）外線光束分解空（kōng）氣中（zhōng）的氧分（fèn）子產生遊離氧（即活性氧（yǎng）），因遊離氧所攜帶正（zhèng）負電子不平衡所以需與（yǔ）氧分子結合，進而產生臭氧，臭氧具有很強的氧化性，通過臭氧對有機廢氣、惡臭氣體進行協（xié）同光解氧化作用，使有機廢氣、惡臭氣體物質降解（jiě）轉化成低分子化合物、CO2和H2O。

UV光解淨化法具有高效處理效率，可（kě）達到95%以上；適應性強，可適應中低濃度，大氣量（liàng），不同有機廢氣以及惡臭氣體物（wù）質的淨化處理；產品性能穩定，運行穩定可靠，每天可24小時連續工作；運行成本（běn）低，設備耗能低，無需專人管（guǎn）理與維護，隻需作定期檢（jiǎn）查。UV光解法因采用光解原理（lǐ），模塊（kuài）采取隔（gé）爆處（chù）理，消除了安全隱患，防火、防爆、防腐蝕性能高，設（shè）備性能（néng）安全穩定，特（tè）別適用於化工、製藥等防（fáng）爆要求高的行業。

以上關於集成（chéng）電路芯（xīn）片廢氣處理（lǐ）方法介紹，希望可以幫到您（nín），其實對於集成電路芯片（piàn）廢氣處理，一般是需要根據廢氣的濃度、產生量、廢氣成分、如何收集等（děng）方（fāng）麵進行設計收集處理。如果您有集（jí）成電路芯片廢氣需要淨化處理，可以隨時撥打400 808 2272電話，谘詢天浩（hào）洋環保,為您提（tí）供集成電路芯片廢氣處理方案及設備。