1.半導體工廠廢氣簡述

隨著（zhe）科（kē）技的飛速發（fā）展，半導體在各個領域的（de）應用越來越廣泛，如智能（néng）手機（jī）、電腦、汽車等。然而半（bàn）導體工廠在生產過程（chéng）中會產生大量的廢氣汙染物，主要為酸（suān）性氣體、堿（jiǎn）性氣體、有機廢氣（qì）等汙染物。如果這些廢氣不經過有效的處理，直接排放到大氣中，不僅對環境造成嚴重的汙染，還會對人體健康造（zào）成傷害。因（yīn）此，需要對半（bàn）導體工廠廢氣進行淨化處（chù）理（lǐ）後達標排放。

2.半導體工廠廢氣處理方法

半導體工廠（chǎng）在生（shēng）產過（guò）程中會產生廢氣，主（zhǔ）要為（wéi）酸性氣（qì）體、堿性（xìng）氣體、有機廢氣等廢氣汙染物。酸性氣體采（cǎi）用堿液噴淋洗滌法處理，堿性氣體采用酸（suān）液噴淋洗滌法處理，而對於有（yǒu）機廢氣處理（lǐ）方法有很多種，常見主（zhǔ）要有活性炭吸附法、燃燒法、UV光解淨化法等，接下來，国产精品一区二区尿失禁環保（bǎo）小編詳細介（jiè）紹半導體工廠廢氣處理方法。

2.1 酸（suān）性、堿性氣體處（chù）理方法

酸性廢氣處理方法是采用“堿液噴淋塔”進行處（chù）理，以10%的氫氧（yǎng）化鈉溶液為吸收液。堿性廢氣處理方法是采用“酸液噴淋塔”進行處理，以10%的硫（liú）酸溶液為吸收液。酸（suān）性、堿性廢氣洗滌淨化法，應用相當（dāng）普遍，具有（yǒu）運行穩定（dìng），處理效果好，投資少，處（chù）理（lǐ）費用（yòng）低等優點。

2.2 有機廢氣處理方法

（1）活性炭吸附法

活性炭（tàn）吸（xī）附法主要原理就是利用多孔固體吸附劑（活性碳、矽膠、分子篩等）來處理有機廢氣，這樣（yàng）就能夠（gòu）通過化學鍵力或者是分子引力充分吸附有害成分，並且將其吸附在吸附劑的表麵，從而達到淨化有機（jī）廢氣的目的。吸（xī）附法目前主要應用於大風量、低濃度（≤800mg/m3）、無（wú）顆粒物、無粘性（xìng）物、常溫的低（dī）濃度有（yǒu）機（jī）廢氣淨化處（chù）理。

活性（xìng）炭淨化率高（活性炭吸附可達到90%以上），實用遍及，操縱簡單，投資低。在吸附飽和（hé）以後需要更換新的活性炭，更換活性炭需要費用，替換下來的（de）飽（bǎo）和以後的活性（xìng）炭也是需（xū）要找專業人員進行危（wēi）廢處（chù）理，運行（háng）費用高（gāo）。

（2）燃燒法（fǎ）

燃燒法隻在揮發性有機（jī）物在高溫及空氣充足（zú）的條件（jiàn）下進行完全燃燒，分解為CO2和H2O。燃燒法適用於各類有（yǒu）機廢氣，可以分為直接燃燒、熱力燃燒和催化燃燒。

排（pái）放濃度大於5000mg/m³ 的高濃（nóng）度廢氣一般采（cǎi）用直接燃燒法，該方法（fǎ）將VOCs廢氣作為燃料進行燃燒，燃燒溫度一（yī）般控製在1100℃，處理效（xiào）率高，可以達到95％一99％。

熱力燃燒法適合於（yú）處理濃度在1000—5000 mg/m³ 的廢氣，采用熱力燃燒（shāo）法（fǎ），廢氣中VOCs濃（nóng）度較低，需要借助其他燃料或助燃氣體（tǐ），熱力燃燒所需的溫度較直接燃燒低，大約為540—820℃。燃（rán）燒法（fǎ）處理有（yǒu）機廢氣處理效率高，但有機廢（fèi）氣若含有S、N等元素，燃燒後產生的廢氣直接外排會導致二次汙染。

通過熱力燃燒或者催化燃燒（shāo）法處理有機廢氣，其淨化率是比較高（gāo）的，但是其投資運營成本極高。因廢氣排（pái）放的點多且分散，很難（nán）實現集中收集。燃燒裝（zhuāng）置需要多套（tào）且需要很大的占地麵積。熱力（lì）燃燒比較（jiào）適合24小時連續不斷運行且濃度較高而穩定的廢（fèi）氣工況（kuàng），不適合間斷性的生產產線工況。催化燃燒的投資和運營費用相對熱力燃燒較低，但淨化效率也相對較低一些；但（dàn）貴（guì）金屬（shǔ）催化劑容易因為廢（fèi）氣中的雜質（如硫化物）等造成中（zhōng）毒失效，而更換催化劑（jì）的費用很高；同時對廢氣進氣條件的控製非常嚴格，否則會造成催化燃燒室堵塞而引（yǐn）起安全事故。

（3）UV光解淨化法

UV光解淨化法利用（yòng）高能UV紫外線光（guāng）束分解空氣中的氧分子產生遊離氧（即活性氧），因遊離氧所攜（xié）帶正負（fù）電子不（bú）平衡所以需與氧（yǎng）分子結合，進而產生臭氧，臭氧（yǎng）具有很強的氧化性，通過臭氧對有機廢（fèi）氣、惡臭氣（qì）體進行協同光（guāng）解氧（yǎng）化作用，使有機廢（fèi）氣、惡臭氣體物質降解轉化成低分子化合物、CO2和H2O。

UV光解淨化法具有高效（xiào）處理效率，可達（dá）到95%以上；適應性強，可適應中低濃度，大氣（qì）量，不同有機廢氣以及惡臭（chòu）氣體物質的（de）淨化處理；產品性能穩定，運行（háng）穩定可靠，每天可24小時連續工作；運行成本低，設備耗能低，無需專人管理與維護，隻需作（zuò）定期檢查。UV光解法因采用光解原理（lǐ），模塊采取（qǔ）隔爆處理，消除了安全隱患，防火、防爆、防（fáng）腐蝕（shí）性能高（gāo），設備性能安全（quán）穩定，特別適用於化工、製藥等防爆要求高的行業。

以上關於半導體工廠廢氣處理方法介紹（shào），希望可以幫到您，其實對於半（bàn）導體（tǐ）工（gōng）廠廢（fèi）氣處理，一般是需要根據廢氣的濃度（dù）、產生量、廢（fèi）氣成分、如何收集等方麵進行設計收集處理。如果您有半導體工廠廢氣需要淨化處（chù）理，可以隨時撥打400 808 2272電話，谘詢国产精品一区二区尿失禁（yáng）環保,為您提供半導體工廠廢氣處理方案及設（shè）備。