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等離子除臭裝置

等離子除臭裝（zhuāng）置

等離子除臭裝置是利用這些高（gāo）能電子、自（zì）由基（jī）等活性粒子和廢氣中的汙（wū）染物作用，使汙染物分子在短的時（shí）間內發生分（fèn）解（jiě），以達到降解汙染物的目的的（de）一種環保設（shè）備。

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產（chǎn）品概述（shù）
技（jì）術原（yuán）理
性能優勢（shì）
適用範圍

產品概述 Product description

等離子除臭裝置是利用這些高能電子（zǐ）、自由（yóu）基等活性粒子和廢氣（qì）中的汙染物作用，使汙染物分子（zǐ）在短的時間內發生分解，以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。

技術原理 technology principle

　　首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時，由設備高壓穩定（dìng）高頻放電，瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓，擊穿廢氣。此階段中，長鏈、多鏈廢氣分（fèn）子由（yóu）於鍵能較弱，約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂，從而變成小分子化（huà）合物，此（cǐ）為第一階段淨化。

其次，隨廢氣進入設（shè）備（bèi）的水分（fèn）子、氧分子被（bèi）高壓擊穿斷裂（liè），生成強氧化基團羥基、臭氧分（fèn）子等。這些強氧化基團與廢氣（qì）分子充（chōng）分（fèn）接觸氧化，加快反應進程。整個反應幹淨，能量利用率（lǜ）高，淨化效率（lǜ）非（fēi）常高。

等離子功能段（duàn）可以激發汙染物能量，促使長鏈、多鏈汙（wū）染物分子的分子鍵斷裂（liè）重（chóng）組，使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。

等離子體化學反應過程（chéng） Plasma chemical reaction process

從（cóng）等離子體反應過（guò）程可以看出，電子先從電場獲得能（néng）量，通過激發或電離將能（néng）量（liàng）轉（zhuǎn）移到汙（wū）染物分子中去，那（nà）些獲得能量的汙染物分子被激發，同（tóng）時有部分分子被電離，從而成為活性基團。然後（hòu）這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和（hé）熱。

另外（wài），高能電（diàn）子也能被鹵素和氧氣等電子親和（hé）力較（jiào）強的物（wù）質俘獲，成（chéng）為負離子。這類負離子具有很好的化學活性，在（zài）化學反應中起著（zhe）重要的作用。

性能優勢 Performance advantage

01

介質阻擋放（fàng）電產生的低溫等離子體中，電子能量高，幾乎可以和所有的惡（è）臭氣體分子作用（yòng）;
02

反應快（kuài），不受氣速限製，氣阻小，工藝成（chéng）熟；
03

采用防腐蝕（shí）材料，電（diàn）極與廢氣不直接接觸，根本上解決了設（shè）備腐蝕問題；
04

隻需用（yòng）電，操作（zuò）簡單，無需派專職人員看守，基本（běn）不占用人工費；
05

設備（bèi）啟動、停止十分迅速，隨用隨（suí）開，不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施（shī），以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油（yóu）化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠（chǎng）等等（děng）工業場所。

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