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低溫等離子除臭裝置

低溫等離子除臭裝置(zhì)

低溫等(děng)離子除臭裝置是利用這些高能電(diàn)子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染(rǎn)物作用(yòng),使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到(dào)降解汙染物的目的的一種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品(pǐn)概述 Product description

產品概述

低溫(wēn)等離子除臭設備是利用這些高能電子(zǐ)、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染(rǎn)物作(zuò)用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。




技術原理 technology principle

產品概述(shù)

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時(shí),由設備高壓穩定(dìng)高(gāo)頻放電,瞬間產生1.5萬伏(fú)特(tè)至2萬(wàn)伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢(fèi)氣分(fèn)子由於鍵能較弱,約束力較(jiào)小。很(hěn)容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為(wéi)第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子(zǐ)被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分(fèn)子(zǐ)充分接觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等(děng)離子功能段可以激發汙(wū)染(rǎn)物能量,促使長鏈、多鏈汙染物(wù)分(fèn)子的分子鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物(wù)。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可以(yǐ)看出,電子先從電場獲得能量,通過激發或電離將能(néng)量轉移到(dào)汙染物分子(zǐ)中去,那些獲得能量的汙(wū)染物分子被激(jī)發,同時有部分分子被電離,從而成為活性(xìng)基(jī)團(tuán)。然後(hòu)這些活性基團與氧氣、活(huó)性基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等(děng)電子親和力較強的物質(zhì)俘獲,成為負離子。這類負(fù)離(lí)子具有很好的化學活性(xìng),在化學反應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子體中,電子能(néng)量高(gāo),幾乎可以和所有的惡臭(chòu)氣體分子(zǐ)作用;

  • 02

    反應快,不受氣(qì)速限製,氣阻小,工(gōng)藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員看(kàn)守,基本不(bú)占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫(wēn)的影響。

適(shì)用範圍 Scope of application

垃(lā)圾(jī)、汙水廠等市政設施(shī),以及(jí)製藥(yào)廠、油漆廠、塗(tú)料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工(gōng)廠等(děng)等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備(bèi)適用(yòng)範圍

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