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等離子除臭（chòu）設備

等離子除臭設備

等（děng）離子除臭設備是（shì）利用這些高能電子（zǐ）、自（zì）由基等活性粒子和廢氣中的汙（wū）染物作用，使汙染物分子（zǐ）在短的時間內發生分解，以達到降解（jiě）汙染物的目的的（de）一種環保設（shè）備。

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產品概述
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適用範圍

產品概述 Product description

等（děng）離子除臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性粒（lì）子和廢（fèi）氣中的汙染物作用，使汙染（rǎn）物分子在短的（de）時間內發生（shēng）分解，以達到降解汙染物的目的（de）的一種環保設備（bèi）。

技術原理 technology principle

　　首先廢氣經均流板過濾棉進入設（shè）備（bèi）時，由設備高壓穩定高（gāo）頻放電，瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓，擊穿廢氣。此階段中，長鏈、多鏈廢氣（qì）分子由於（yú）鍵能（néng）較弱，約束力較小。很容易被擊穿化學（xué）鍵破裂，從而變成小分（fèn）子化合（hé）物，此為（wéi）第（dì）一階段淨化。

其次，隨廢氣進入設備的水分子、氧分（fèn）子被高（gāo）壓擊穿（chuān）斷裂，生成強氧化基團羥基、臭（chòu）氧分子等。這些（xiē）強氧化基團與（yǔ）廢氣分子充分接觸氧化，加快反應進程（chéng）。整個反應幹（gàn）淨，能量（liàng）利用（yòng）率高，淨化效率非常高。

等（děng）離子功能段可以（yǐ）激發汙染物能量，促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷（duàn）裂重組，使難（nán）處理（lǐ）的汙染物降解為較（jiào）易處理的低碳汙染物。

等（děng）離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process

從等離（lí）子體反（fǎn）應過程（chéng）可以看出，電子先從電場獲得能量（liàng），通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去，那些獲得能量的汙染物分子被（bèi）激發，同時有部分分子被電離，從而成為（wéi）活性基團。然後這些活性基團與（yǔ）氧氣（qì）、活性基團與活性基團之間相互碰撞後生（shēng）成穩定產（chǎn）物和熱。

另外，高能電（diàn）子也能被鹵素和氧（yǎng）氣等電子親和力較強的物質俘獲，成為負離（lí）子。這類負離子具有很好的化學活性，在化學反應中（zhōng）起著重要的作用。

性能優勢（shì） Performance advantage

01

介質阻擋放電（diàn）產生的低溫等離子（zǐ）體中（zhōng），電子能量高，幾乎可以（yǐ）和（hé）所有的惡臭氣（qì）體分子作用;
02

反應快，不受氣速限製，氣阻小，工藝成熟；
03

采用防腐蝕材料，電極與廢（fèi）氣不直接接觸，根本上解決了設備腐（fǔ）蝕問題（tí）；
04

隻需用（yòng）電，操作簡單，無需派專職（zhí）人員（yuán）看守，基本不占用人工費；
05

設備啟動、停止十（shí）分迅速，隨（suí）用隨開（kāi），不受氣（qì）溫的影（yǐng）響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政（zhèng）設施，以及製藥廠、油（yóu）漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工（gōng）、農藥廠、製（zhì）藥（yào）廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

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