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離子除臭設備

離(lí)子除臭設備

離(lí)子除臭設備是(shì)利用這些高能電子(zǐ)、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短(duǎn)的時間內發生分解,以達(dá)到降解汙染物的目(mù)的的一種環保設備。
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  • 產(chǎn)品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用(yòng)範圍

產品概述 Product description

產(chǎn)品概述

離(lí)子除(chú)臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作(zuò)用,使汙染物分子在短的時間內發生(shēng)分解,以(yǐ)達到降解汙染物的目的的一種環保設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣(qì)經均(jun1)流板過濾棉進入設備時,由設(shè)備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬(wàn)伏特(tè)高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱(ruò),約束力較小(xiǎo)。很容易被擊(jī)穿化學鍵破裂,從而變(biàn)成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢(fèi)氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊(jī)穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭(chòu)氧分子等。這些強氧化(huà)基團與(yǔ)廢氣分子充分接觸氧化,加快反應進程。整個(gè)反應(yīng)幹(gàn)淨,能量利(lì)用率高,淨化(huà)效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重(chóng)組,使難處理的汙染物降解(jiě)為較易處理(lǐ)的低碳汙染物(wù)。








等離子體(tǐ)化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產(chǎn)品概述

從等離子體反應過(guò)程可以看出,電子先從(cóng)電場(chǎng)獲得能(néng)量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子(zǐ)中去,那些獲得能(néng)量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從而成為活(huó)性基團。然後這些活(huó)性(xìng)基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞(zhuàng)後生成(chéng)穩定產物和熱。

另外,高能電子(zǐ)也能被鹵素和(hé)氧氣等(děng)電(diàn)子親和力較強的物質俘獲,成(chéng)為負離子(zǐ)。這類負離子具有很好的化(huà)學(xué)活性,在(zài)化學反應中起著重要的作用。






性(xìng)能(néng)優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放(fàng)電產生的低溫(wēn)等離子體(tǐ)中,電子能量高,幾(jǐ)乎可以和所有的惡臭氣體(tǐ)分子作用;

  • 02

    反應快(kuài),不受氣速限製,氣阻小,工藝(yì)成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決(jué)了設備腐(fǔ)蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟(qǐ)動(dòng)、停止十(shí)分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等(děng)市政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料(liào)廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等(děng)工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

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