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低溫等離(lí)子除臭裝置

低溫等離子除臭裝置

低溫等離子除臭裝置是(shì)利用(yòng)這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙(wū)染物作用,使汙染物分子(zǐ)在短的時間內發生分(fèn)解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技(jì)術原理
  • 性能優(yōu)勢
  • 適用範圍

產品概述(shù) Product description

產品概述

低溫等離子除臭設(shè)備是利用這(zhè)些高能電子、自(zì)由基等活性粒子和廢氣中的(de)汙染物(wù)作用,使汙染物分(fèn)子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備(bèi)。




技術原(yuán)理 technology principle

產品概述(shù)

  首先廢氣經均流板(bǎn)過濾棉進入(rù)設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏(fú)特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱,約束力較小。很(hěn)容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階(jiē)段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基(jī)團羥(qiǎng)基、臭氧分子等。這些(xiē)強氧化基團與廢氣分(fèn)子充(chōng)分接觸氧化,加快(kuài)反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高(gāo),淨化(huà)效率非常高。

等離子功能段可以激發汙(wū)染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組,使難(nán)處理的汙染物降解為較易處(chù)理(lǐ)的低碳汙染物。








等離子體化學反應過(guò)程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體(tǐ)反應(yīng)過(guò)程可以看(kàn)出,電子先從電(diàn)場獲得能量,通過(guò)激發(fā)或(huò)電離將能量轉移到汙(wū)染(rǎn)物(wù)分子中去,那些(xiē)獲(huò)得能量的汙染物分子(zǐ)被激發,同時有部分分子被電離,從而成為(wéi)活性(xìng)基團。然後這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後(hòu)生(shēng)成穩定產物和熱。

另(lìng)外,高能電子也能被(bèi)鹵素和氧氣等(děng)電子親和力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有(yǒu)很好的化學活性,在化學反應中起(qǐ)著重要的(de)作用。






性能(néng)優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣(qì)速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采(cǎi)用防(fáng)腐蝕材料(liào),電極與廢(fèi)氣不直接接觸(chù),根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需(xū)用電,操(cāo)作(zuò)簡單,無需派專職(zhí)人員看守,基本不(bú)占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用(yòng)範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施(shī),以及(jí)製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷(shuā)廠、造紙廠、飼料加工(gōng)廠等等工業場所。

UV光解廢氣(qì)淨化設備適用(yòng)範圍

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