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低溫等離子除(chú)臭設備

低溫等離子除臭設備

低溫等離子除臭設備是利用這些高能(néng)電(diàn)子、自由基(jī)等活性粒子(zǐ)和廢(fèi)氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的(de)時間內發生分解,以達(dá)到降解汙染物的(de)目的的一種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技(jì)術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

低溫等離子除臭設備是利用這些高(gāo)能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作(zuò)用,使汙染物分子在(zài)短的(de)時間(jiān)內發生分解,以達到降解汙染物的(de)目的的一種環保設(shè)備。



技術原理 technology principle

產品概(gài)述

  首先(xiān)廢氣經均流板(bǎn)過濾棉進入設(shè)備(bèi)時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏(fú)特高壓,擊(jī)穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於(yú)鍵能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入(rù)設備的水分子、氧分子被高(gāo)壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快(kuài)反應進(jìn)程。整個反應幹淨,能量(liàng)利用率高,淨化(huà)效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使(shǐ)長鏈、多鏈(liàn)汙染(rǎn)物分子的分子(zǐ)鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離(lí)子體反應過程可以看出,電子(zǐ)先從電場獲得(dé)能量,通過激發或(huò)電離(lí)將能(néng)量轉移到汙染物分子(zǐ)中去,那些獲得能(néng)量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從而成為活性基團。然後這些活性(xìng)基(jī)團與氧氣(qì)、活性基團與活性基團之間相互碰撞(zhuàng)後生成穩定產(chǎn)物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成(chéng)為(wéi)負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反應中起著(zhe)重要的(de)作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子體中(zhōng),電子能量高,幾乎(hū)可以和所有的惡臭氣體(tǐ)分子作用;

  • 02

    反應(yīng)快,不受氣速限製,氣阻(zǔ)小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接(jiē)觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電(diàn),操作簡單,無需派專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速(sù),隨用隨開,不受氣溫(wēn)的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施(shī),以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮(pí)革廠、石油化工、農藥(yào)廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料(liào)加工廠(chǎng)等等工業場所。

UV光解廢氣淨化(huà)設備(bèi)適用範圍

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