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等(děng)離子除臭裝置(zhì)

等離子除臭裝置(zhì)

等離子除臭裝置是利用這些高能電子、自由(yóu)基等活性粒子和(hé)廢(fèi)氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目(mù)的的一種環(huán)保設備。
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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述(shù)

等離子除臭裝置是利用這些高能(néng)電子、自由基等(děng)活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以(yǐ)達到降解汙染物的目的的一種環(huán)保設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均(jun1)流板過(guò)濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高(gāo)頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至(zhì)2萬伏特高壓(yā),擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子(zǐ)由於鍵能較弱,約束力較小。很(hěn)容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一(yī)階段淨化。

其(qí)次,隨廢氣進入設備的(de)水分子、氧分子被(bèi)高壓擊穿(chuān)斷裂(liè),生成強氧化基團羥基、臭氧分子等(děng)。這(zhè)些強氧化(huà)基團與廢氣分子充分(fèn)接觸氧化,加快反(fǎn)應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨(jìng)化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多(duō)鏈汙染物分子的(de)分子(zǐ)鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降解為較易處理(lǐ)的低碳汙染(rǎn)物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述(shù)

從等離(lí)子體反應過程可以看出,電子先從電(diàn)場獲得能量,通過激(jī)發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲(huò)得能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩(wěn)定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和(hé)氧氣等電子(zǐ)親和力較強的物質俘獲,成為(wéi)負離子(zǐ)。這類負離子具有很好的化學活性(xìng),在化學反應(yīng)中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的(de)低溫等離子體中,電子(zǐ)能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速(sù)限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材(cái)料,電極與(yǔ)廢(fèi)氣不直接接觸,根本上解決了(le)設備腐蝕問題;

  • 04

    隻(zhī)需用電,操作簡單,無需派專職(zhí)人(rén)員看守,基本不(bú)占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的(de)影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政(zhèng)設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油(yóu)化工、農藥廠(chǎng)、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化(huà)設(shè)備適用範圍

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