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低溫等離子除臭設備(bèi)

低(dī)溫等離子除臭設備

低溫等離(lí)子除臭設(shè)備(bèi)是利用這些(xiē)高能電子、自由基等活性粒(lì)子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時(shí)間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設(shè)備。

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  • 產品概述
  • 技術(shù)原理
  • 性(xìng)能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

低溫等離子除臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子(zǐ)和廢氣中的汙(wū)染物作用,使汙染物分(fèn)子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染(rǎn)物的目的的一種環保設備。



技術原(yuán)理 technology principle

產(chǎn)品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設(shè)備時,由設備高壓(yā)穩定高頻放(fàng)電,瞬間產生1.5萬伏(fú)特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢(fèi)氣分子由於鍵能較弱,約束力較小。很容(róng)易被擊穿化學鍵破裂,從而變成(chéng)小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次(cì),隨廢氣(qì)進入設備的水分子(zǐ)、氧分子被高壓擊穿斷(duàn)裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分(fèn)子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸(chù)氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率(lǜ)高,淨(jìng)化效率(lǜ)非常高。

等離(lí)子(zǐ)功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組(zǔ),使難(nán)處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物(wù)。








等離子(zǐ)體化學反應過(guò)程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子(zǐ)體反應過程可以看出(chū),電子先從(cóng)電場獲得能(néng)量,通(tōng)過激發或電離將能量轉移到汙染物分子(zǐ)中去(qù),那些獲得能量的汙染物分子被激(jī)發,同時有(yǒu)部分(fèn)分子被電離,從而成為活性基團。然後這些(xiē)活性基團與氧氣、活(huó)性基(jī)團與活性基團之間相互碰撞後生成(chéng)穩定產物和熱。

另外,高能電(diàn)子也能(néng)被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為負離子(zǐ)。這類負離子具有很好的化學活性,在化學(xué)反應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產(chǎn)生的低溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和所有(yǒu)的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反(fǎn)應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設備腐(fǔ)蝕問(wèn)題;

  • 04

    隻需(xū)用電,操作簡單,無需派(pài)專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的(de)影響。

適(shì)用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市(shì)政設施,以(yǐ)及製藥(yào)廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農(nóng)藥廠、製藥(yào)廠、印刷廠、造紙廠、飼料加(jiā)工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

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