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離子除臭設備

離子除臭設備

離子除臭設備是利用這些(xiē)高能電子、自由(yóu)基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時(shí)間內發生分解,以(yǐ)達到降解汙(wū)染物的目(mù)的的一種環保設備。
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  • 產(chǎn)品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

離子除臭設備是利(lì)用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物(wù)分子在短的時間內發生分解(jiě),以達(dá)到降解汙染物的目的(de)的一種環保(bǎo)設備。




技術原理 technology principle

產品(pǐn)概述

  首先廢氣(qì)經均流板過濾棉進入(rù)設(shè)備時,由(yóu)設備高壓穩(wěn)定高頻放(fàng)電,瞬間產生1.5萬伏特(tè)至2萬伏特高壓,擊(jī)穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子(zǐ)由於鍵能較弱,約束力較小(xiǎo)。很容易被擊穿(chuān)化學鍵破裂(liè),從而變成小分子化合(hé)物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢(fèi)氣進入設備的水分子、氧分子被高壓(yā)擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧(yǎng)分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快反應進程。整個反應幹(gàn)淨,能量(liàng)利用率高,淨化效率非常高(gāo)。

等離子(zǐ)功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多(duō)鏈汙染物分子的分子(zǐ)鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降解為較易(yì)處理的低碳汙染物。








等離子體化(huà)學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等(děng)離子體反應過程可以看出(chū),電子先從電場獲得能量(liàng),通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去(qù),那些獲得能量(liàng)的汙染物分子被(bèi)激(jī)發,同時有(yǒu)部分分子被電離,從而成為活性基團。然後這些活性(xìng)基團與氧氣、活性基(jī)團與活性基團之間相(xiàng)互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高(gāo)能(néng)電子也(yě)能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反應中起著重(chóng)要的作用。






性能(néng)優(yōu)勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生(shēng)的低溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不(bú)受氣速限製,氣阻小,工藝成熟(shú);

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣(qì)不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操(cāo)作簡單,無需派(pài)專職人(rén)員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止(zhǐ)十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響(xiǎng)。

適用範圍 Scope of application

垃圾(jī)、汙水廠等市政設(shè)施,以及製藥(yào)廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠(chǎng)、石油化工、農藥廠、製藥廠(chǎng)、印刷廠、造紙(zhǐ)廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

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