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低溫等離子除臭設備

低溫等離子除臭設備

低溫等(děng)離子除臭設備是利(lì)用這些高能電子、自(zì)由(yóu)基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發(fā)生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。

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  • 產品概述(shù)
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用(yòng)範圍

產品概述 Product description

產品概述

低溫等離子除臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子(zǐ)在短的時間內(nèi)發生分(fèn)解,以達到降解汙染物的目的的一種環保(bǎo)設備。



技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經(jīng)均流板過(guò)濾(lǜ)棉進入設(shè)備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏(fú)特至(zhì)2萬(wàn)伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較(jiào)弱,約束力較小(xiǎo)。很容易(yì)被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分(fèn)子化合物,此為第一(yī)階段淨化(huà)。

其次,隨廢氣進入(rù)設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強(qiáng)氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣(qì)分子充分接(jiē)觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量(liàng)利(lì)用率高,淨化(huà)效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組,使(shǐ)難處(chù)理的汙染(rǎn)物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學反應過程(chéng) Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可以(yǐ)看出,電子先從電場(chǎng)獲得(dé)能量(liàng),通過激發或電離將能量轉移到汙(wū)染物分子中去,那(nà)些獲(huò)得能量的汙染物分子(zǐ)被激發,同(tóng)時有部分分子被電離,從而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活(huó)性基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定(dìng)產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和(hé)氧氣等電子親和力(lì)較強的物(wù)質俘獲,成為負離子。這(zhè)類負(fù)離子(zǐ)具有(yǒu)很好的化學活性,在化學反應(yīng)中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電(diàn)產生(shēng)的低溫等(děng)離子體中,電子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反(fǎn)應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟(shú);

  • 03

    采用防腐蝕(shí)材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡(jiǎn)單,無需(xū)派專職人員看守,基本不占(zhàn)用人工費;

  • 05

    設備啟(qǐ)動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範(fàn)圍(wéi) Scope of application

垃圾、汙(wū)水廠等市政設施(shī),以(yǐ)及製藥(yào)廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工(gōng)業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

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