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等離子除臭裝置

等離子除臭(chòu)裝置

等離子除臭裝置是利用這些高能電子、自由基等活性粒子(zǐ)和(hé)廢氣中的汙染物作用,使汙(wū)染物(wù)分子在短的時間內發生(shēng)分(fèn)解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。
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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適(shì)用範圍

產品概述 Product description

產品概述

等離子除臭(chòu)裝置(zhì)是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染(rǎn)物的目的(de)的一種環(huán)保設備。




技(jì)術原理 technology principle

產(chǎn)品概述

  首先廢氣經均流板過濾(lǜ)棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中(zhōng),長鏈、多鏈廢氣分子由於(yú)鍵(jiàn)能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分(fèn)子化合物,此為第一階段淨化。

其次(cì),隨廢(fèi)氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂(liè),生成強(qiáng)氧化基團羥基(jī)、臭氧分子等。這些強氧化(huà)基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快反應進程。整個反(fǎn)應幹淨,能量利用率高,淨(jìng)化效(xiào)率非常(cháng)高。

等(děng)離子功能段可以激(jī)發汙(wū)染(rǎn)物能量,促使(shǐ)長鏈、多鏈汙染物分子(zǐ)的分子鍵(jiàn)斷裂重組,使(shǐ)難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離(lí)子體化學(xué)反(fǎn)應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可以看出,電(diàn)子先從電(diàn)場獲得能量,通(tōng)過激發或電離將能量轉移到汙染物(wù)分子(zǐ)中去,那(nà)些獲得能量的(de)汙(wū)染物分子被激發,同時有部分(fèn)分子被電離,從而成為活性(xìng)基團。然後這些活性基團與氧氣、活性基團(tuán)與(yǔ)活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另(lìng)外,高能電子也能被鹵素和氧氣(qì)等電子親和力較強的物質俘獲(huò),成(chéng)為負離(lí)子。這類(lèi)負離(lí)子具有很好的化學活性(xìng),在化學反應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子體中,電子能量高(gāo),幾乎可(kě)以和所有的惡臭氣(qì)體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限(xiàn)製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣(qì)不直接接觸,根本上解決了設備腐(fǔ)蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員看守,基(jī)本不(bú)占用人工費;

  • 05

    設(shè)備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的(de)影響(xiǎng)。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠(chǎng)、石油化工、農藥廠(chǎng)、製藥廠、印(yìn)刷廠、造紙(zhǐ)廠(chǎng)、飼料加工廠等等工業(yè)場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

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